科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

型號(hào)：VTC-2DC2英寸

產(chǎn)品概述：

VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。

主要參數(shù)：

• 輸入電源：220V AC 50Hz    
• 輸出電壓：600 VDC 
• 輸出功率：大500W 
• 整機(jī)功率：1000W（包括真空泵）

濺射腔體：

• 采用石英腔體，尺寸：166mm OD x 150mm ID x250mm H（配置直靶頭）
• 尺寸：166mm OD x 150mm ID x290mm H（配置帶角度傾斜靶頭） 
• 密封法蘭:直徑為165mm，采用金屬制作，密封采用O形密封圈

濺射頭&樣品臺(tái)：

• 濺射頭安裝靶材直徑為2英寸，同時(shí)可選配1英寸濺射頭
• 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺(tái)，其與濺射頭之間距離可調(diào) 
• 樣品臺(tái)可加熱，加熱溫度RT-500℃（RT為室溫） 
• 安裝有一可手動(dòng)操作的擋板 
• 大可制膜的直徑為:2英寸（標(biāo)配2英寸，如果需要更大尺寸請(qǐng)與我們銷售聯(lián)系）

真空系統(tǒng)：

• 安裝有KF25真空接口 
• 數(shù)字真空壓力表（Pa） 
• 此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設(shè)備中不包含） 
• 采用機(jī)械泵< 3.8E-2 Torr(參考值，詳情請(qǐng)點(diǎn)擊） 
• 采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值，詳情請(qǐng)點(diǎn)擊） 
• 可在本公司選購各種真空泵

進(jìn)氣：

• 設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶 
• 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流

靶材：

• 靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度) 
• 可在本公司選購各種靶材

薄膜測(cè)厚儀（可選）：可在本公司選購薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上

產(chǎn)品外形尺寸：

540mm L x540 mm W x1100mm H

凈重：70 kg（不包括泵）

科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

型號(hào)：VTC-2DC2英寸

質(zhì)量認(rèn)證：CE認(rèn)證

• 使用提示：
  有時(shí)為了達(dá)到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜 
• 為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 
• 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈 
• 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面 
• 超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍铮?）真空烘箱除去水分。 
• 等離子清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。 
• 制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

警告：

• 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動(dòng)機(jī)體。 
• 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標(biāo)配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。 
• 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶