產(chǎn)品列表PRODUCTS LIST
合肥科晶多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐
產(chǎn)品概述:
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐,此款設備主要包括混氣裝置,加熱爐,基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成。可與*分子*光器配合,進行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜,而且靶材濺射腔體內(nèi)可安裝3塊靶材,可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發(fā)。此款設備特別適合制作多元化合物薄膜。
產(chǎn)品特點:
可與*分子激光器配合進行PLD制膜
腔體內(nèi)部可安裝多塊靶材,進行多靶激光蒸發(fā)
腔體內(nèi)部靶材可旋轉
可對基片加熱(溫度可達1200℃)
加熱爐(對基片加熱):
雙層殼體結構,并帶有風冷系統(tǒng),使殼體表面溫度小于60℃
加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金(表面涂有氧化鋯涂層)
工作溫度:1200℃
大功率:1.2KW
合肥科晶多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐 腔體:
基片加熱腔體為高純石英材料
靶材蒸發(fā)腔體為不銹鋼材料
靶材蒸發(fā)腔體內(nèi)可安裝3塊靶材,并且靶材可旋轉(轉速:0-30rmp)
兩個腔體通過卡箍式法蘭連接
真空系統(tǒng)(選配):
10-2Torr(采用機械泵)
10-5Torr(采用渦旋分子泵)
可在本公司購買各種真空泵
窗口:
采用藍寶石(Al2O3)
尺寸:Φ25*0.5mm
允許激光的入射角度為30°-90°
壓力控制系統(tǒng):一套壓力控制系統(tǒng)安裝在儀器的腔體上,可保證腔體內(nèi)部的氣壓恒定與混氣系統(tǒng)配合使用,可保證蒸發(fā)腔體中各種氣體的分壓恒定;
混氣系統(tǒng):
配有2路質量流量計混合系統(tǒng)
混氣罐尺寸:Φ80X120mm
大氣壓:3×106Pa
精度:±1%FS
質量流量計量程:1:1-199sccm;2:1-499sccm
可按客戶要求訂制其他量程的質量流量計
可選購3-5路混氣系統(tǒng)
等離子射頻電源(可選購):可在設備上安裝300W等離子射頻電源,使腔體內(nèi)的氣體等離子化,達到等離子化激光蒸發(fā)反應鍍膜
儀器尺寸:1300mm*1260mm*820mm
質量認證:
CE質量認證
所有電器元件(>24V)都通過UL/MET/CSA認證
若客戶出認證費用,本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證